Cuando la Mercedes Benz Fashion Week Madrid está a punto de abrir sus puertas, Samsung EGO Innovation Project, el certamen que une moda y tecnología, ha nombrado ganador de su octava edición a la firma Zap & Buj por su proyecto Wall dress.

Nacida este mismo año, el 2017 y caminando de la mano de las arquitectas y fundadoras Elena Zapico y Raquel Buj, ZAP & BUJI busca la convergencia entre la moda y la arquitectura, dos disciplinas que ya han funcionado a la perfección en otras marcas muy conocidas.

Se trata de una interesante propuesta que convierte planos arquitectónicos en patrones de moda. Este proyecto, que verá la luz el próximo 19 de septiembre sobre la pasarela Samsung EGO, presenta una nueva forma de comprender la arquitectura y la moda dentro del mismo campo. Este premio es uno de los más celebrados por los diseñadores debutantes que ven en ello una oportunidad para formar parte del elenco de diseñadores que estarán presentes en la edición de la pasarela de moda más importante del país. Redacción